日本大塚电子Otsuka膜厚仪FE-300F

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日本大塚电子Otsuka膜厚仪FE-300F

日本大塚电子Otsuka膜厚仪FE-300F

产品说明:

这是一种紧凑且低成本的涂层厚度计,能够实现高精度光学干涉膜厚度测量,作简便。

采用了将必要设备存放于主体的一体化机箱,以实现稳定的数据采集。

虽然成本低,但也可以通过获得绝对反射率来分析光学常数。

产品特点:

小巧、低成本且作简便的薄膜厚度测量

通过选择光谱仪和光源,可选择胶片厚度范围

条件设置和作测量简便。 任何人都能轻松测量

配备实时监控和仿真功能

其测量点直径为φ1.2毫米,可以测量

从3nm~35μm到厚薄膜的广泛范围。

测量项目:

绝对反射率测量

薄膜厚度分析(10层)

光学常数分析(n:折射率,k:衰减计数)。

测量对象:

功能性薄膜、塑料

透明导电薄膜(ITO、银纳米线)、相位对比薄膜、偏振薄膜、增强现实薄膜、

PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、粘合剂、保护薄膜、硬涂层、防指纹剂等。

半导体

化合物半导体、硅、氧化膜、氮化物薄膜、抗蚀剂、硅化镫、砷化镓、InP、镰铀、铀铀、铀铀、铀铵、硅晶、蓝宝石等。

表面处理:

DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。

光学材料:

滤镜、AR涂层等。

FPD

液晶显示器(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有机膜、封装剂)等。

其他的则是

硬盘、磁带、建筑材料等。

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