产品说明：
可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数 可分析纳米级多层薄膜的厚度
可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量Ellipso光谱 通过可变反射角测量。
产品特点：
可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数
可分析纳米级多层薄膜的厚度
可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量Ellipso光谱
通过可变反射角测量，可详细分析薄膜
通过创建光学常数数据库和追加菜单注册功能，增强操作便利性
通过层膜贴合分析的光学常数测量可控制膜厚度/膜质量。
测量项目：
椭圆量参数（tanψ， cosΔ）的测量。
光学常数分析（n：折射率，k：衰减系数）
薄膜厚度分析。
测量对象：
半导体晶圆：门控氧化物薄膜，氮化物薄膜：
SiO。2，SixO y，SiN，SiON，SiNx，Al2O3罪xOy，聚硅、锌硒、BPSG、钛
光刻蚀刻的光学常数（波长色散）。
● 化合物半导体
x加语（1-x）作为多层，非晶硅。
● FPD
导向影片
● 新材料
DLC（类碳金刚石）、超导薄膜、磁头薄膜
● 光学薄膜
TiO2，SiO2，防反射膜
● 光刻：在g射线（436纳米）、h射线（405纳米）、i射线（365纳米）及其他波长进行氮和k的评估。
