产品说明：
G5型气处理设备
G5型得益于荏原独特的废气处理技术，在气体处理性能、安全性和使用寿命等方面都有着大幅的提升，并且具有高维护性。
该燃烧型废气处理系统有两种类型，最大进气量分别为350 L/min和500 L/min。
可处理各种可燃性、活性、惰性气体(特别管控危险化学品除外)；
可同时处理工艺气体和清洁气体；
可高效分解包括PFCs在内的温室气体；
低运行成本(根据处理的对象气体，燃料供给量可变)；
大幅提升高运行时间和维护性(自动刮板、流水壁结构等)；
设置有各种安全对策标准。
| 型式 | 単位 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
| 処理方式 | 燃焼式＋湿式 | 燃焼式＋湿式 | 燃焼式＋湿式 | 燃焼式＋湿式 | |
| 最大流入ガス許容量 | L/min | 350 | 500 | 600 | 1200 |
| 燃料 | 都市ガス／プロパンガス選択 | 都市ガス／プロパンガス選択 | 都市ガス／プロパンガス選択 | 都市ガス／プロパンガス選択 | |
| 寸法 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
| 処理可能ガス例 | プロセス(デポ)ガス | プロセス(デポ)ガス | プロセス(デポ)ガス | プロセス(デポ)ガス | |
| SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など | SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など | SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など | SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など | ||
| クリーニングガス全般 | クリーニングガス全般 | クリーニングガス全般 | クリーニングガス全般 | ||
| NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など | NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など | NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など | NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など | ||
| エッチングガス全般 | エッチングガス全般 | エッチングガス全般 | エッチングガス全般 | ||
| HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など | HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など | HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など | HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など | ||
| PFCs | PFCs | PFCs | PFCs | ||
| CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など | CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など | CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など | CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など | ||
| 標準装備品 | 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | |
| オプション | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット |
