产品说明：
此燃烧型废气处理设备适用于半导体制造工艺中（外延工艺）产生大流量氢气/氯气的废气处理。
适合外延生产工艺气体处理的紧凑设计；
可同时处理大流量氢气氯气，最大进气量为400L/min；
标配副产物清除功能（燃烧器部分），保证正常运行时间。
| 型式 | 単位 | G6-E A1~A4 | G6-E P1~P4 |
| 処理方式 | 燃焼式＋湿式 | 燃焼式＋湿式 | |
| 最大流入ガス許容量 | L/min | 400 | 400 |
| 燃料 | 都市ガス | プロパンガス | |
| 寸法 | W x D x H mm | 1,200×650×1,900mm | 1,200×650×1,900mm |
| H₂最大処理可能流量 | L/min | 200 | 200 |
| 処理可能ガス例 | プロセス(デポ)ガス | プロセス(デポ)ガス | |
| H2 、PH3、Si3H8、SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、など | H2 、PH3、Si3H8、SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、など | ||
| クリーニングガス全般 | クリーニングガス全般 | ||
| NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など | NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など | ||
| エッチングガス全般 | エッチングガス全般 | ||
| HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など | HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など | ||
| 標準装備品 | 大流量H2処理バーナー | 大流量H2処理バーナー | |
| 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | ||
| オプション | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | |
| 粉体排出削減用ファンスクラバー | 粉体排出削減用ファンスクラバー |
